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但是,他的理論,並不被當前的市場所接受。去年提出的時候,沒有市場買單。
現在的路徑一共四大陣營,尼康佔主導的157n鐳射、因特爾bd摩托騾拉聯合的135neuv、ne託西巴ntt和ib聯合的1n接近式x光、朗訊貝爾實驗室高的0004nep和000005nip。
後面兩個算是浪漫陣營,純理論研究,他們就沒想過產業化的事情。
而euv太超前,短期內根本無法實現。
我個人還是更看好尼康的乾式157n技術路徑。”
卿雲笑了,他懶得和程進扯什麼科學英雄史觀的問題,更沒興趣和他聊技術路徑路徑,開口說道,
“荷蘭的a正在和林本堅一起共同攻堅浸入式光刻技術。”
程進聞言搖了搖頭,“沒用的,浸入式透過水滴折射確實可以跳過157n,直接做到134n波長,而後就會被65n的最高生產解析度給卡住,到時候怎麼辦?
小卿,光刻是要遵循瑞利公式的,λ為光源波長、na為數值孔徑、為光刻工藝係數,三者共同決定投影式光刻機解析度d。
光刻機的解析度與光源波長成正比,想要製造出更小的尺寸,就需要縮短光源的波長,這也是光刻機世代演變的核心。
所以,你不管怎麼折射,最終還是要透過光源的波長來解決問題。”
熟知後事的卿雲很清楚,程進說的是對的。
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浸入式、浸沒式、浸潤式,其光源都是193n鐳射器,隨後是根據瑞利公式的另一個引數孔徑,來實現精度的提高。
再之後,便是二次曝光技術,同樣是基於193n的光源。
而最終,在duv後,a還是走了波長135n的euv路徑。
但那是十來年後的事情了。
彼時的a已經一家獨大,它的領先優勢可以隨意切換賽道,但此時的光刻機市場卻並非如此。
此時還是群雄混戰時期,誰先突破,便是贏家通吃。
a與尼康佳能的光刻機之戰,其實是一個弱者在走投無路之下,抱著‘光腳的不怕穿鞋的’的賭命心態進行絕地突圍的故事。
a能贏,並不在於林本堅的技術有多先進,而是在於林本堅給出了一個商業友好性極強的工藝方案。
在a推出浸入式193n產品的半年後,尼康也宣佈自己的157n產品以及ep產品樣機完成。
然而,林本堅的浸入式屬於小改進大效果,產品成熟度非常高,所以幾乎沒有人去訂尼康的新品。
而半導體產品就是這樣的特點,市場說了算。
贏得了市場,贏得了迭代的機會。
他想了想,還是耐心說道,“老師,您知道,我是一個商人。所以我習慣用商業的角度來看待問題。”
拿起礦泉水抿了一口,卿雲繼續說著,“您說,從投入……或者說對當前工藝的改進角度看,走157n還是走浸入式193n容易?”
程進茫然的看著他,搖搖頭表示不知道,“但是技術路徑就在擺著啊,科研是要攻堅克難的。”
卿雲見狀也只能無奈的聳了聳肩膀,“科研是科研的事,但作為一個企業家,我告訴你,我肯定選容易的。
有錢有市場我能繼續出錢讓科研研究下去,沒錢我啥事都做不了。”
程進聞言嘶了一聲,他好像明白了點。
卿雲哂然一笑,“我們想要追趕別人,最好的法子是什麼?”
“彎道超車?”
程進嗤笑了一聲,他表示,這個口號已經喊了20年了,至少在半導體產業來說,是越
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