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101分步光刻機,主要效能指標接近甚至達到米國GcA公司的4800dSw系統水平。

同樣在該年,中科院滬市光學精密機械研究所研製出掃描式投影光刻機。

總體來看,我國八十年代中期的光刻機水平即便和頂尖水平差一兩代,但差距不算太大,可以存在趕追的可能性。

但在八十年代中後期,造不如買,買不如租的思想開始盛行,貿工技妖風四起。

許多國企紛紛轉型轉產,大專案紛紛落馬,沒有了支援,專案全部停滯,包括大飛機運十同樣如此。

導致我國自研的EdA和光刻機技術被棄之一旁,積體電路產業漸漸與國外脫節,晶片成為卡脖子技術。

到後來ASmL已經開始生產3奈米光刻機,我國才剛剛突破28奈米工藝,技術水平差了將近六、七代。

後來國家發現技術是買不來、要不來、討不來的,才開始花大力氣奮起直追。

中間甚至出現幾十億漢芯詐騙、上千億投資的宏芯爛尾等等令人啼笑皆非的事。

可以說都是在為當初的錯誤決定買單。

放棄晶片製造光刻機是錯,放棄源頭EdA軟體更是錯上加錯。

最後被人卡脖子的時候才後悔莫及。

但即便面臨這種被各種卡脖子要你命的時候,竟然還有某些人沒有認識到這個要命問題!

還在叫喊著科學無國界,甚至把國人的基因圖譜釋出到國外的雜誌期刊上?

這人到底是壞還是蠢?

光刻機、EdA國產化,彭萬華默默唸叨了兩句。

忽然覺得以他超前的視野和眼光,完全可以讓這個國家的積體電路和半導體行業少走點彎路。

甚至,引領這個行業的發展。

想到這,彭萬華突然覺得資料也不枯燥了,津津有味地看了起來。

設計EdA軟體需要三大塊基礎能力,首先是專案管理能力,畢竟這麼大專案,沒有專案管理那將會是一場災難。

二是程式設計能力,再好的設想和架構都需要程式設計才能實現。

三是業務能力,EdA應用於設計、製造、封裝、測試整個流程中,和Ic設計、Ic製造、封測產業相輔相成。

如果不能理解積體電路和半導體業務流,那設計出的EdA軟體肯定水土不服。

當然,老徐的課題和這三個能力有一定關係,但並不是強相關。

課題組並不是直接設計EdA,甚至連EdA架構也算不上。

現在更多的是梳理產業現狀,國內外發展趨勢,行業面臨的相關問題,以及EdA軟體的技術可行性。

除了這些,課題過程中會接觸到一些軟體並進行必要的試用,試用是為了體會業務的邏輯,以及為什麼要這麼做。

甚至為了和相關部門和工廠加強關係,還得親自手擼程式碼,幫忙解決一些小問題。

至於具體EdA軟體國產化怎麼實現,並驗證,那就非這個小小的課題組所能解決的了。

所以這個課題的輸出物,即彭萬華等人要輸出的顯而易見是一份材料和總結。

“走,去微機房練練手去。”

正當彭萬華看材料時,董師兄上前喊他一起去微機房。

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