第476章 提前幾十年開始佈局

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在研究所一直呆到了傍晚，晚上週宏邀請了李秀成和胡英梅去家裡吃飯。

兩個兒子都在外地上班，家裡就老兩口。

老太太很好客，尤其是知道李秀成是周宏的老闆更是熱情無比，拿出看家的本事整了滿滿當當的一桌子菜。

到餐末時，李秀成說道：“明天我就不去研究所了，我和胡會計到北京玩兩天然後就直接飛興蓉。

研究所這邊還得要周教授您多費心，把好關。”

周宏一拍胸口，嚴肅道：“放心吧李總，只要我這把老骨頭還立得起來，就不會讓研究停下來。”

“嗯。我相信周教授！”李秀成微笑著點頭，他對老前輩的道德品格是相當信任的，不過也是時候談一談光刻機的發展線路問題了。

現在研究的是老舊的乾式微影光刻機，但未來是浸入式光刻機的天下，要怎麼才能讓老前輩接受這個觀點呢？

這就要好好琢磨琢磨下了。

吃完飯，胡英梅幫著老太太去收拾碗筷。兩人坐回到沙發上喝茶解膩。

李秀成斟酌著說道：“我有一個問題想要請教周教授。”

“光刻機的？有什麼問題你儘管問。”周宏就是欣賞李秀成這一點，有什麼不懂的也不憋著。同樣，知道自己不懂，也不亂指揮人。

這樣大方明理又能放權的老闆，可比以前那些外行指揮內行的領導要強太多了。

“我知道光刻機的塗膠原理其實跟相機膠片暴光差不多，最近我也一直在惡補這方面的知識。

我知道像光刻機的生產效率、良率以及最小解析度均在不斷發展。

而光刻機的最小解析度由一個公式r=kλ/na控制。

其中r代表可分辨的最小尺寸也就是我們追求的精度，那麼肯定就是r越小越好，k是工藝常數代表我們的工藝技術,λ.....λ...。

λ是什麼來著？”

說到這裡，李秀成像是卡了殼，撓著腮幫子說道。

周宏一臉好為人師的表情笑道：“λ是光刻機所用光源的波長，我們現在研究的就是g線光刻機，波長346nm。

na代表物鏡數值孔徑這個東西也就是關鍵的暴光系統。

這也是最難的東西，我們現在造的都是落後別人十年的引數產品。

反正，光刻機制程工藝水平的發展是一直遵循你說這個公式的。

現在米國的最新型光刻機已經可以生產800nm製程的晶片，我們卻還在1200nm徘徊，還差得遠囉！”

說到最後，周宏反而一臉失落，也沒了開始的興致。

“哦，真複雜！”李秀成做出一臉我很懵的表情，然後話鋒一轉道：“但我大致抓到了兩個重點，光源、物鏡折射率！

想要提升晶片的生產效率和良率，是必須要同時發展光刻機的內部構造和工作模式。

那麼我們可以從整體因素考慮，為什麼不換一種光源，然後再換一種折射介質？”

“嗯？”周宏回過神來，有些奇怪的說道：“現在光線就g線和i線兩種，波長在三百多到四百左右，確實比較大，而且國際上的公同認知是在193nm縮短到157nm製程時會出現瓶頸。

但折射介質是什麼說法？”

見周宏來了興趣，李秀成嘴角微勾然後迅速恢復原狀。

這也就是現在的乾式微影光刻機和浸沒式光刻機的最大區別了！

他故意做出一臉不確定的說道：“光線我覺得可以多做試驗，把什麼xyz射線啊，紫外線，極光都試試，總能找到最合適的。

至於折射率嘛，現在的光刻機光波是在空氣中傳播，然後照射暴光。